**目前光刻机处于怎样的水平?

T朱娇娇C 2024-05-20 11:06:47
最佳回答
光刻机又名:掩膜对准曝光机
主要是用来生产集成电路用的
目前世界上主要的光刻机厂商有asml、尼康、佳能、欧泰克、上海威微电子装备、suss、abm,lnc.
美国abm光刻机
abm光刻机公司成立于1986年,总部位于美国硅谷san jose。主要经营光罩对准曝光机(光刻机),单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。截止到2010年3月,abm公司在世界范围售出了800多台光刻机,50多台单独曝光系统。abm光刻机在**销量第一,超过半数的大学、研究所和部分工厂使用abm的光刻机。abm光刻机在**销售超过150台,包括:**重点实验室、各领域研究所、知名大学和为数众多的工厂,设备用于生产和研发,abm光刻机愿以其优越的性能和有竞争力的价格为**半导体市场提供了优良的产品和良好的服务
abm光刻机分多种型号主要机型为
abm正面(单面)对准光刻机
abm双面(背面)对准光刻机、可见光红外背后对准光刻机
abm深紫外光刻机
abm标准型led光刻机
abm全自动生产型光刻机
abm大功率光刻机(500w,1000w,2000w)电源系统可选。abm半自动光刻机、全自动光刻机
abm大尺寸光刻机(6英寸光源以上)
应用领域
电子封装(晶片凸点和晶片级csp)
光电设备(led光刻机,激光二极管光刻,cmos光刻,光栅光刻,波导阵列光刻)
探测器(ccd,近/远 红外,实时x射线)
mems光刻机 和moems 设备显示器(lcd光刻机,tft-lcd光刻机,oled光刻机)
**光刻机中科院光电所研制的设备,使用波长更长、更普通的紫外光,意味着国产光刻机使用低成本光源,实现了更高分辨力的光刻。就技术来说,目前台积电已经掌握了7nm工艺,并正在研发5nm工艺。而中芯国际还在苦苦提升28nm工艺的良率,距离突破14nm工艺还需要一些时间。 20210311
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