抛光的cmp

海峰 2024-06-06 00:20:54
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cmp,即chemical mechanical pol**hing,化学机械抛光。cmp技术所采用的设备2113及消耗品包括:抛光机、抛光浆料、抛光垫、后cmp清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。cmp技术的概念是1965年由monsanto首次提出。该技术最初是用于获取高质量的玻5261璃表面,如**望... 20210311
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